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光学形貌仪使用特性

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所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2024-03-04 17:05
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公司基本资料信息
详细说明
 光学形貌仪进行表面粗糙度和表面形貌测量时,比探针式轮廓仪有G低的成本,但同样使用当今较高分辨率光学轮廓仪采用的白光干涉(WSI)及相移干涉(PSI)测量技术,垂直分辨率可达次纳米级。光学形貌仪的直观软件包括表面粗糙度,形状和台阶高度的测量,在数秒内,您可以获得平面和曲面表面形貌测量所有常见的粗糙度参数。也可以选择拼接功能软件来组合多个影像以提供大面积的测量。
 
产品应用:
MEMS、半导体材料、太阳能电池、生物材料,光学元件、陶瓷和材料的研发。
 
产品特性:
1、采用白光共J焦色差技术,可获得纳米级的分辨率;
2、测量具有非破坏性,测量速度快,准确度高;
3、测量范围广,可测透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料;
4、尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面;
5、不受样品反射率的影响;
6、不受环境光的影响;
7、测量简单,样品无需特殊处理。
 
更多产品信息来源:http://www.dymek.com.cn/Products-35221367.html
https://www.chem17.com/st110205/product_35221367.html
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