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磁控溅射仪的安装条件

   日期:2024-04-07     浏览:9    评论:0    
核心提示:  VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄
   VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
  安装条件
  本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
  1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
  2、电:AC220V50Hz,必须有良好接地
  3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套
  接头)及减压阀
  4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
  5、通风装置:需要
  主要特点
  1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
  2、可制备多种薄膜,应用广泛。
  3、体积小,操作简便。
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  http://www.hongruizd.com/Products-38216451.html
  https://www.chem17.com/st607225/product_38223867.html
 
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